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毕业论文标题:

绿色木霉特性研究及其多菌灵耐药性菌株的筛选

 本文ID:LWGSW11353 价格:收费积分/100
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生物工程论文编号:SW204  论文字数:10079,页数:21

目录
中文摘要 I
英文摘要 II
目录 III
1. 绪论 1
 1.1 木霉菌的简要介绍 1
 1.1.1 木霉的拮抗范围 1
 1.1.2 木霉的拮抗机制 1
 1.2 木霉菌在生物防治上的应用 2
      1.2.1 木霉菌在土壤中的应用 2
      1.2.2 木霉菌在地上部分的应用 3
 1.3 课题研究的意义 4
2. 实验部分 5
 2.1 材料 5
 2.1.1 供试菌株及农药 5
 2.1.2 仪器 5
 2.1.3 培养基 5
 2.2 方法 5
     2.2.1 四中培养基对木霉菌株菌丝生长的影响 5
     2.2.2 温度对木霉菌株菌丝生长的影响 5
     2.2.3 pH对木霉菌株菌丝生长的影响 6
     2.2.4 光照对木霉菌菌丝生长的影响 6
     2.2.5 拮抗性菌株的紫外线诱变 6
     2.2.6 耐药菌株遗传稳定性的研究 6
     2.2.7 稳定菌株生长速率的测定 6
3. 结果与讨论 7
 3.1 不同培养基对木霉菌生长的影响 7
 3.2 不同温度对木霉菌生长的影响 7
 3.3 不同酸碱条件对木霉菌生长的影响 7
 3.4 不同光照条件对木霉菌生长的影响 7
 3.5 拮抗性菌株的紫外线诱变 8
 3.6 耐药遗传稳定性 9
 3.7 稳定菌株的生长速率 11
 3.8 讨论 11
4.总结与展望 13
致谢 15
参考文献 16

摘要:绿色木霉是一株具有生防潜力的拮抗菌,研究发现菌株在PDA培养基、豆饼粗粉琼脂培养基、PDA酵母膏培养基和豆芽汁培养基上均能较好生长,但在PDA培养基上生长最快。温度对菌丝生长和孢子产生影响显著,25oC时菌丝生长最快,菌株在pH值5-8范围内均可生长,pH值6时菌丝生长最快。光照处理对菌丝生长影响不明显。
 进行了耐多菌灵生防木霉菌株的筛选和生防效果的测定研究。为获得对病原菌有显著拮抗能力的耐多菌灵木霉菌株,通过含药平板诱导和紫外线诱变,获得耐药性菌株,在多菌灵2.0g/L浓度下生长较好,抗性菌株在含药培养基上连续继代转移培养10次,抗性程度未见下降。
 关键词:木霉;生物学特性;耐药性;多菌灵;紫外线诱变

Abstract: Trichoderma viride strain is a potential biocontrol fungus that grew well on PDA, soybean powder, PDA with yeast extract, Bean sprout juice Culture medium.  Among them, the PDA medium was most favorable for its hypha growth. Temperature had distinct effect on the hypha growth and spore bearing, the optimum temperature for hypha growth was 25oC. Trichoderma viride strain could grow in a wide of pH value(from 5 to 8),the optimum pH value for hypha growth was 6.Light did not distinctly affect hypha.
 This article discusses the screening and determination of defensible effect for defensible Trichoderma strains tolerant to Carbenicillin. With PDA medium containing fungicides and ultraviolet radiation.Trichoderma of resistant to agricultural chemical parent are obtained Carbenicillin stress from antagonistic strain.Trichoderma strains are obtained.The resistance is not decline after transferring of culture ten times continuously.  
Keywords:Trichoderma viride; Biological; Fungicide tolerance;Carbendazim;UV


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